微細加工技術

フォーマット:

図書

責任表示:

高分子学会編

言語:

日本語

出版情報:

東京 : エヌ・ティー・エス, 2002.9

形態:

v, 192, vp ; 27cm

著者名:

高分子学会 <DA00047161>

大津, 元一(1950-) <DA01343986>

河田, 聡 <DA08167258>

益子, 信郎 <DA18473170>

下田, 達也 <DA18473228>

東, 博純

緒方, 寿幸

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シリーズ名:

ポリマーフロンティア21シリーズ ; 13 <BA46100324>

目次情報:

基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工	大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法	河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工の将来展望	益子信郎 [執筆]
マイクロリキッドプロセスを用いたデバイス創成と将来展望	下田達也 [執筆]
連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価	東博純 [執筆]
新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発	緒方寿幸 [執筆]

書誌ID:

BA59010960

ISBN:

9784860430061 [4860430069] (基礎編)