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1.

図書

図書
辻内順平 [ほか] 編
出版情報: 東京 : 朝倉書店, 2012.6
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2.

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河田聡著
出版情報: 東京 : アドスリー , 東京 : 丸善株式会社出版事業部 (発売), 2010.1
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3.

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科学技術振興機構編 ; 伊澤達夫 [ほか著]
出版情報: 東京 : アドスリー , 東京 : 丸善株式会社出版事業部 (発売), 2007.7
シリーズ名: 基礎研究報告会講演記録集 ; 2006第2回
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情報通信産業から全産業に展開する光技術 伊澤達夫 [著]
次世代のフォトニクス材料を作る 平尾一之 [著]
ホログラムメモリー : CD一枚に映画を200本記録する夢の光記録技術 井上光輝 [著]
光合成をこの手に! 橋本秀樹 [著]
ナノ構造材料と光技術の融合によるエネルギー・環境への応用 周豪慎 [著]
フーリエ光レーダー顕微鏡 : 光で生体内部を見る 谷田貝豊彦 [著]
ナノとバイオをつなぐ光技術とその未来 河田聡 [著]
情報通信産業から全産業に展開する光技術 伊澤達夫 [著]
次世代のフォトニクス材料を作る 平尾一之 [著]
ホログラムメモリー : CD一枚に映画を200本記録する夢の光記録技術 井上光輝 [著]
4.

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河田聡編著
出版情報: 東京 : CQ出版, 2002.1
シリーズ名: I/F essence
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5.

図書

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高分子学会編
出版情報: 東京 : エヌ・ティー・エス, 2002.9
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基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工 益子信郎 [執筆]
マイクロリキッドプロセスを用いたデバイスの創成と将来展望 下田達也 [執筆]
連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価 東博純 [執筆]
新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 緒方寿幸 [執筆]
基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工 益子信郎 [執筆]
6.

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図書
高分子学会編
出版情報: 東京 : エヌ・ティー・エス, 2002.9
シリーズ名: ポリマーフロンティア21シリーズ ; 13
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基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工の将来展望 益子信郎 [執筆]
マイクロリキッドプロセスを用いたデバイス創成と将来展望 下田達也 [執筆]
連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価 東博純 [執筆]
新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 緒方寿幸 [執筆]
基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工の将来展望 益子信郎 [執筆]
7.

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大津元一, 河田聡, 堀裕和編
出版情報: 東京 : 朝倉書店, 2002.11
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8.

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大津元一, 河田聡編
出版情報: 東京 : オプトロニクス社, 2000.4
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9.

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河田聡編
出版情報: 東京 : 学会出版センター, 1999.3
シリーズ名: 日本分光学会測定法シリーズ ; 38
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10.

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図書
大津元一, 河田聡編
出版情報: 東京 : オプトロニクス社, 1997.9
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