著者典拠情報

標目形：
西永, 頌||ニシナガ, タタウ
属性：
Personal
場所：
栃木県
日付：
1939
から見よ参照形：
西永, 頌(1939-)||ニシナガ, タタウ
Nishinaga, T.
Nishinaga, Tatau
注記：
東京大学工学部・教授, 工学博士. 専攻・電子材料工学,結晶成長
「電子デバイスプロセス」の奥付による
「未来をひらくニューマテリアル」(森北出版,1991.1):奥付
名城大学理工学部教授(2002.8現在)
東京大学名誉教授・豊橋技術科学大学名誉教授(2014.7現在)
EDSRC:III-V族ベース強磁性半導体によるバンドエンジニアリングと磁気光学デバイスへの応用 / 研究代表者 田中雅明(田中雅明, 2002.8)
著者典拠ID：
DA0041261X


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1.

図書
図書
1. Basic techniques
editor-in-chief, Tatau Nishinga ; volume editor, Thomas F. Kuech
出版情報: Amsterdam : Elsevier, 2015
シリーズ名: Handbook of crystal growth ; v. 3 . Thin films and epitaxy ; pt. A
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2.

図書
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2. Materials, processes, and technology
editor-in-chief, Tatau Nishinga ; volume editor, Thomas F. Kuech
出版情報: Amsterdam : Elsevier, 2015
シリーズ名: Handbook of crystal growth ; v. 3 . Thin films and epitaxy ; pt. B
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