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1.

図書
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1. バイポーラ・トランジスタと光デバイス
B.L.アンダーソン, R.L.アンダーソン著 ; 樺沢宇紀訳
出版情報: 東京 : 丸善出版, 2012.1
シリーズ名: 半導体デバイスの基礎 / B. L. アンダーソン, R. L. アンダーソン著 ; 樺沢宇紀訳 ; 下
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2.

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2. バンドギャップエンジニアリング : 次世代高効率デバイスへの挑戦
大橋直樹監修
出版情報: 東京 : シーエムシー出版, 2011.12
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3.

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3. 先端材料光物性
青柳克信 [ほか] 共著
出版情報: 東京 : コロナ社, 2008.2
シリーズ名: フォトニクスシリーズ / 伊藤良一, 神谷武志, 柊元宏編 ; 1
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4.

図書
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4. ナノスケールの光物性
斎木敏治, 戸田泰則共著
出版情報: 東京 : オーム社, 2004.9
シリーズ名: ナノオプティクス
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5.

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5. 微細加工技術 [基礎編] : ポリマーフロンティア21シリーズ13
高分子学会編
出版情報: 東京 : エヌ・ティー・エス, 2002.9
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基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工 益子信郎 [執筆]
マイクロリキッドプロセスを用いたデバイスの創成と将来展望 下田達也 [執筆]
連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価 東博純 [執筆]
新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 緒方寿幸 [執筆]
基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工 益子信郎 [執筆]
6.

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6. 微細加工技術 (基礎編)
高分子学会編
出版情報: 東京 : エヌ・ティー・エス, 2002.9
シリーズ名: ポリマーフロンティア21シリーズ ; 13
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基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工の将来展望 益子信郎 [執筆]
マイクロリキッドプロセスを用いたデバイス創成と将来展望 下田達也 [執筆]
連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価 東博純 [執筆]
新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 緒方寿幸 [執筆]
基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工の将来展望 益子信郎 [執筆]
7.

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7. 半導体フォトニクス工学
土屋治彦, 三上修編著
出版情報: 東京 : コロナ社, 1995.1
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8.

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8. 電子情報デバイス
越田信義, 工藤修, 近村隆夫共著
出版情報: 東京 : 日新出版, 1993.10
シリーズ名: 現代理工学大系
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9.

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9. オプトエレクトロニクス : 基礎と応用
水野博之著
出版情報: 東京 : 日刊工業新聞社, 1978.7
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