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1.

図書

図書
高分子学会編
出版情報: 東京 : エヌ・ティー・エス, 2002.9
所蔵情報: loading…
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基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工 益子信郎 [執筆]
マイクロリキッドプロセスを用いたデバイスの創成と将来展望 下田達也 [執筆]
連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価 東博純 [執筆]
新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 緒方寿幸 [執筆]
基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工 益子信郎 [執筆]
2.

図書

図書
高分子学会編
出版情報: 東京 : エヌ・ティー・エス, 2002.9
シリーズ名: ポリマーフロンティア21シリーズ ; 13
所蔵情報: loading…
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基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工の将来展望 益子信郎 [執筆]
マイクロリキッドプロセスを用いたデバイス創成と将来展望 下田達也 [執筆]
連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価 東博純 [執筆]
新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 緒方寿幸 [執筆]
基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 大津元一 [執筆]
フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 河田聡 [執筆]
自己組織化的手法による微細加工の将来展望 益子信郎 [執筆]